富士フイルムでは磁性材料をはじめとする多様な技術を融合し高性能な軟磁性複合材料を開発しています。
併せて、お客様のデバイス・プロセスにマッチした製品形態、プロセスの開発を進めています。
微細化・高精度化が進むデバイスの高機能化に最適な軟磁性複合材料およびプロセスを提供し、量産時には長年の材料製造で培ってきた量産化スキーム・製造ノウハウを元に高品質な材料を安定供給します。
材料の開発
プロセスの開発
開発品の特長
- 高性能
- 主要特性である透磁率が高い軟磁性複合材料を開発しています。
- 広帯域
- kHz~GHzの各周波数帯域に適合する軟磁性複合材料を取り揃えています。
kHz帯向け
MHz帯向け
GHz帯向け
- 多様な形態
- 様々な工程・使用方法に対応可能なさまざまな形態の複合材料を検討しています。